厚度决定速度：为什么一家成立两年的公司能做出EUV光源？

文 | 星船知造，作者 | 王动，编辑 | 丁宁

厚度决定速度。

一家成立仅仅两年的公司能做出EUV光源样机，不是因为天降奇才，而是因为一条漫长的产业链已足够厚实。

秋天是丰收的季节。每到秋天，上海桂花香，落叶黄，城市就像被金色绸缎包裹了起来。

2026年秋，中国工博会现场。朗道燧岩（上海）科技有限公司的一台极紫外（EUV）光源系统样机引起了人们极大的好奇。

好奇的点有二。

一是其落在产业上的分量。

EUV光刻机是制造7nm及以下先进芯片最具经济性的主流方案。其三大核心零部件正是极紫外光源（EUV光源）、光学系统（投影物镜）与双工件台。

中国极紫外光源长期受海外技术垄断与禁运限制。但据此次据朗道燧岩展台工作人员介绍，这台极紫外光源系统样机的国产化率已达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，可用于芯片曝光测试。

当然，样机亮相不等于可以量产

一台能测的样机，和一台真正能进入工业级应用的产机之间，还隔着“功率、稳定性、客户验证”等多条鸿沟。

这台光源系统样机距离量产，还需3到5年。

此前，中国在极紫外光源环节上做到的是“零部件级”的研发进展——这台样机是我们第一次把激光、锡滴、收集镜、真空、控制等核心部件全部装到一起，并让它们同时点亮（能用于芯片曝光测试）。

它的出现，意味着中国EUV光刻机的核心环节（EUV光源系统）已从实验室技术验证迈向工程化样机阶段。——国产EUV的量产之路将由此提速。一旦半导体设备国产化最坚硬的EUV光刻机拼图被补齐，7nm、5nm先进制程将打破最核心的硬件卡点。

人们好奇的另一个点，则是一个耐人寻味的追问：

成立两年的上海公司，凭什么做出EUV光源样机？

朗道燧岩成立于2024年。至今不过两年。

相比之下，同一展馆内，中微公司展出的极高深宽比刻蚀设备，已能面向先进存储芯片做超高堆叠刻蚀——走到这一步，中国刻蚀产业用了二十年。

北方华创等平台化厂商把覆盖薄膜沉积等环节的设备搬上工博会，宣告薄膜沉积等环节已进入国产替代攻坚阶段——这条路，至少走了十五年。

而EUV光源样机的“两年”，并不是单一企业一家能做到的“两年”。它背后站着的，是一条已经足够厚实的产业链。让年轻企业得以站在众人肩上，完成第一次整机级点亮。

伏脉千里，长链会师。

01 一条没人能独自走完的路

年轻的朗道燧岩，把“对标阿斯麦”写在了官网醒目处。

“朗道仿真项目组对标ARCNL (ASML&Cymer所用仿真服务机构)，为半导体行业提供等离子体仿真解决方案。”目前其“天算”仿真能力已嵌入朗道自身的EUV光源研发。

企业自信的底气不仅在于自身，还在于一条漫长的产业链——中国EUV光刻机几乎每一个关键环节都有人在做。

光源领域，朗道燧岩的背后，精密光学、高压电源的国产货架已经摆满：

长春光机所体系的收集镜+多层膜、中科科仪的真空系统、中科仪的干式真空泵龙头……当朗道燧岩攻关光源系统的锡滴、激光、软件的同时，也伸手就能从国内货架拿到这些自主可控的器件，并把它们装到一起。

在EUV 光刻机中，光源被认为是技术难度最高、研发周期最长的子系统之一：

EUV光源是一种能够产生波长在10-121纳米极紫外波段光线的装置。7nm及以下先进制程依赖13.5nm 的EUV光源。

拆开一台EUV光源系统，能看到一条由激光器、锡滴发生器、收集镜、真空泵组、氢气流量控制与热管理系统耦合而成的完整产业链。

搭起这条链的难度有多大？

大到在EUV光源整机量产供应层面，全球长期只有两家：

荷兰的阿斯麦（ASML）、日本的Gigaphoton。

source：阿斯麦

首先，强如阿斯麦，也并不拥有完整的高端光刻机产业链。到今天为止，也没有任何一个国家可以做到这一点。

一台高端EUV光刻机，包含10万个以上的精密零件，背后是上千家供应商。其精度要求常被形容为用一支笔在米粒上刻完一整部书。

同时，高端光刻机全球格局高度集中。据第三方测算，阿斯麦整机大部分零部件向外采购，供应商总数达5000余家，但真正决定EUV能否工作的核心供应商，几乎一只手数得过来。

整机在荷兰，ASML做总装；光学系统在德国，蔡司几乎是投影物镜的唯一选择；材料与部分设备在日本（刻胶、高纯试剂、部分光学基材）。

也就是说，作为目前全球唯一能商业化交付EUV光刻机的公司，阿斯麦的关键环节分散在数国，阿斯麦做的是组装工程。但产业格局高度集中。

再具体到三大核心部件的光源侧，也是一样。

目前商用EUV光源的主流方案是LPP（Laser Produced Plasma,激光等离子体光源），这也是目前唯一被证明可以量产的EUV光源方案。朗道燧岩此次发布的EUV光源样机采取的就是LPP技术路线。

LPP路线的EUV光源整套系统可拆为五个核心子系统

驱动激光器、锡滴发生器、收集镜＋多层膜、真空系统、控制与仿真软件

阿斯麦光源的驱动激光器靠德国通快。通快（TRUMPF）提供高功率CO₂驱动激光；

真空系统靠Edwards和普发真空（Pfeiffer）；美国MKS提供其中的真空、压力和流量控制部件。

德国蔡司Zeiss则为阿斯麦提供EUV光学系统。阿斯麦持有蔡司半导体业务（Carl Zeiss SMT）约24.9%股权，双方签有排他性独家供货协议。

美国Cymer2013年被阿斯麦收购，负责整个光源系统集成；包括锡靶等离子体光源整机；

也就是说，搞定极紫外光源系统，阿斯麦靠的是“收购+绑定”。核心供应商分布数国。

对阿斯麦而言，买是最优解：把上下游都买进来、绑起来，用资本和独家供应把关系锁死。每一段都由最强的一家来做，然后在一台机器上合拢。

日本Gigaphoton也设计出了EUV光源产品，但它目前并未进入ASML的EUV光刻机供应链，主要面向检测、计量等非光刻应用。

source：蔡司

但对于中国来说，“买”这个前提不成立。

高端光刻机的封锁依然严峻——中国买不到整机和关键子系统。

从价值量看，光源是光刻机三大核心部件之一。另两大核心部件为照明、投影物镜。

这三块各占多少价值，业内有两套算法。

根据国内券商相关测算，一种是投影物镜33%、光源20%、工件台15%；另一种是光学系统24%、光源15%、双工件台12%。但无论哪一种，光源都稳居前三，占整机价值量的15%—20%。

它也是整条光刻机产业链上，“垄断层数”最多的环节。

从光源整机集成向下追到驱动激光器等核心子部件，几乎每一层都落在“一家”或“极少数几家”手中，且不同层级的核心企业之间并非简单的买卖关系，而是通过收购、独家协议和数十年股权与联合研发形成的深度绑定

第一层是光源整机系统——Cymer事实上的独家量产垄断。

美国Cymer被阿斯麦收购后，成为全球唯一实现EUV光源量产的供应商。同时，全球EUV光刻机整机也由阿斯麦独家供应。也就是说，想要获得先进EUV光源，首先绕不开阿斯麦的光刻整机；想要EUV整机，又绕不开它控制的光源体系。

全球唯二的另一家EUV光源整机系统企业——日本Gigaphoton，其EUV光源主要用于掩模检测/量测工具，尚未进入量产光刻机的光源供应链。

所以目前Cymer就是独家。

第二层是驱动激光器核心——德国通快（TRUMPF）全球独家供应。

先说一下，EUV（Extreme Ultraviolet,极紫外光刻）不是DUV（Deep Ultraviolet Lithography，深紫外光刻）的升级版：

当波长从DUV的193纳米变成EUV的13.5纳米，材料体系、光学设计、光源路线也必须全部换一遍

DUV用熔石英和氟化钙做透镜，EUV用钼硅多层膜做反射镜；

DUV用准分子激光直接照射掩模，EUV要先打锡滴造出等离子体再收集辐射。

之所以选择“锡”，是因为在13.5纳米这个窗口上，锡的等离子体发射效率最高，转换效率最划算。

但它同样带来极高的技术难度：锡会沉积、会污染、会腐蚀光学元件。锡滴本身也要小、快、准。它在真空腔里以极高频率喷出，每一滴都要被激光精确命中，打空就意味着这一发的能量白费。

所以EUV光源的技术难度之一是要搞定锡滴发生器，用高功率CO₂激光轰击锡液滴，产生13.5纳米极紫外光。

驱动激光器目前由德国通快独家供应，与ASML签有长期独供协议。通快的现役EUV驱动激光系统包含数十万个零件，重量超过17吨。通快掌握着EUV光源中技术最密集的心脏。

source：德国通快

第三层是Cymer闭环的“锡滴—等离子体—收集”链。

EUV光源系统的难度，不仅仅在于某一个关键环节，也在于它需要真空、光学、收集镜等多条线同时聚拢，并达到功率、污染、寿命等参数的互相平衡。

在EUV光源整机内部，还存在一层更细的垄断：锡液滴发生器、等离子体控制、光束收集和净化等核心子模块，均由Cymer自身掌握。

锡液滴需要以极高频率产生尺寸高度均匀的微滴，并被激光精准击中，这一过程的控制精度直接决定EUV光的转换效率和稳定性。2013年ASML收购Cymer时，核心动机之一就是将锡滴技术收入囊中。

这意味着，即使在光源整机内部，关键功能子模块也没有形成开放竞争的供应链，而是由整机垄断者（Cymer/ASML）纵向一体化覆盖。

第四层是EUV收集镜。

收集镜是决定产业能否持续的关键——功率越高、锡轰击越猛、镜子寿命越短，运营成本曲线就会陡峭上翘。

收集镜是光源系统里离等离子体最近的精密光学件，锡碎屑持续沉积会吃掉反射率，属于必须定期更换的消耗品——是EUV光刻机运营成本的大头之一。

EUV收集镜（以及所有EUV反射镜）由德国蔡司独家供应。阿斯麦持有蔡司半导体业务24.9%股权，进一步锁定了这一供应关系。

这种绑定的微妙之处在于，它跨越了“光源”与“光学”的传统模块边界——光源系统即使做出来了，如果收集镜这一关被卡住，EUV光也无法有效进入后续光路。

此外，还包括“真空、气体、压力与流量控制垄断”——美国MKS等企业在真空、压力、流量和气体控制系统上占据重要位置；“特种气体、晶体和材料”——EUV光源需要高纯特种气体、非线性光学晶体、反射镜镀膜材料等，部分气体供应商已进入Cymer认证体系。等等。

source：pexels 锡液滴

这就是EUV光源的特殊之处。它同时牵涉了激光、超高真空、精密控制、特种材料、光学镀膜、系统软件等多个产业环节，且每一核心环节都只有极少数供应商。阿斯麦、Cymer、通快、蔡司、MKS等则共同构成了一个相对排他性生态。

Cymer握着整机量产，TRUMPF拥有发光引擎，Cymer自身锁住锡滴与等离子体控制，蔡司锁住光源出口的收集镜——这一切都意味着，后发者要突破，不是在单一技术上追赶一家公司，而是要能在一条漫长产业链的多层都越过技术的高墙。

此次朗道燧岩极紫外光源样机的意义，正是在这个多层技术垄断链上打开了第一个可公开验证的缺口——真空、光学、收集镜等多条产业线已经开始聚拢。（当然，目前只是样机，未来还有很长的工程爬坡路要走）

跑通以下所有环节，才能装起一台极紫外光源系统样机。点击下图可放大

EUV光源系统产业链各阵列加速到位，胜利会师。

所以，并不是一家年轻企业的无所不能，而是多年里分散在链条各处的环节，在2026年完成了一次光源系统领域的小型会师。

中国EUV光刻机产业链的厚度，已经厚到一家成立仅仅两年的初创公司伸手就能拼出一台EUV光源。正面进入了那条几乎被阿斯麦独占的高端光刻机赛道。

样机立在聚光灯下。灯光之外，链还在加速合拢。

02 90%从哪里来？

朗道燧岩此次光源系统样机的国产化率达到90%——九成的秘密，在漫长的国产链上。而链的初始，至少要回到十八年前。

2008年，“02专项”启动。这一时间点实际上远早于2018年贸易战的开打，也早于2020年9月美国对华为芯片的全面断供。更高层面的产业战略布局，比“买不了必须自己造”成为社会共识早了多年。

《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006—2020）》确定的16个国家科技重大专项里，第02项启动实施——《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》，即"02专项"。

“02专项”明确了中国光刻机产业进入协同攻坚阶段。

发展自主可控的EUV产业，不是我们要脱离全球产业分工。恰恰相反，是为了在别人随时可以关门的房间里，给自己留一套钥匙。

在民口重大专项里，“02专项”是少数由地方政府牵头实施的一项，牵头的是上海和北京。

今天该专项已不只是一项重大科研攻关，而是成为了一条庞大产业链的孵化器。

在长周期的产业攻关中，关键环节总有人可以顶上。链不会断、节奏不会停。

EUV光源这个环节，中国是全球除荷兰体系外参与者最多的地方。点击下图放大

表注：《星船知造》按公开可查信息统计，非权威名录

逐一来看。仅光源系统层，公开可查的主体就超8家：

朗道燧岩、华芯极光、哈工大团队、苏州极紫外、中科院上海光机所、清华大学、云栖极耀、华日激光、皓宇芯光，分踞LPP、LDP/DPP、SSMB、HHG四条路线。点击可放大

表注：《星船知造》按公开可查信息统计，非权威名录； 表中学术侧在上光所、产业化侧在华芯极光

目前商用EUV光源的主流方案是LPP。但LPP不是唯一

LPP已用二十年工程数据证明了确定性，但功率每上一档，激光、锡滴、收集镜都要重新配平，边际成本越来越陡；LDP和FEL天花板更高、结构更优雅，但都没有跨过量产验证这道坎。

业界通常认为，ASML不会换路线——因为其护城河就是LPP那二十年不可复制的工程数据。而中国目前在多线并进：这是各支团队的工程禀赋使然——哈工大攻坚LDP，靠的是等离子体放电的长期积累；清华的SSMB有加速器学科底子，朗道燧岩的LPP靠的是清华气体放电实验室。

source：朗道燧岩

说完整机，再聚焦到LPP光源的五个子系统，逐一来看

驱动激光器——

全球领先的是阿斯麦的独家供应商德国通快。按通快官网公开参数，其最新一代“激光放大器”平均功率可达40千瓦，整机含45.7万个零部件，由种子模块（HPSM）、四级放大链（HPAC）、光束传输系统（BTS）和终端聚焦组件（FFA）四大模块构成。

2026年2月，阿斯麦宣布在真实运行条件下完成1000瓦光源工程演示，将锡滴频率从每秒5万滴翻倍到10万滴。

我国情况——朗道燧岩的“辉光”业务板块是公开信息里唯一明确对标EUV驱动激光器的国产主体。

国产工业CO2激光器（切割、焊接用途）已有成熟产业基础。

通用CO2激光器领域，中国有大族激光（HLD/HLC/HLW系列，几十瓦到320瓦量级）、华工激光等。中国是全球最大激光设备（整机）市场（2025 年 958 亿元、全球占比 58%），并在中低功率 CO₂ 激光器产量上占主导。

但EUV驱动激光器要求的是高重频、窄脉宽、兆瓦级峰值功率的脉冲逐级放大，两者共享气体激光的物理底座，工程上是两个物种。

通快40千瓦、45.7万零件的放大器，是从工业CO2激光几十年的放大链积累里长出来的。

EUV 光源腔体整体剖视图 source：阿斯麦

锡滴发生器——

全球领先的Cymer锡滴发生器（droplet generator）能做到每秒喷射约5万颗锡滴，单颗直径20—30微米（约为头发丝的三分之一）。2026年的1000瓦演示将频率提到了每秒10万滴。

中国进展是——目前公开可查的参与者名单相对“较短”：朗道燧岩（2026年4月公开“一种液滴发生器”发明专利、6月公开“多级高压脉冲发生器”专利）、华芯极光（公司定位明确写着“液滴锡靶的产生、动力学行为调控与精确测量”）、华中科技大学（学术积累多年）、哈工大/苏州极紫外（DPP路线的靶材供给同源技术）。

收集镜＋多层膜——

长春光机所体系是绝对主力。国科精密（“02专项”支持的光刻机投影物镜研发单位）、奥普光电（长春光机所控股上市平台）、国望光学（DUV物镜配套）。产业配套侧有茂莱光学（精密光学镜头）、至期光子（超精密光学元件国产替代）等。

这个环节的格局是典型的“院所攻坚＋上市公司配套”。

收集镜的寿命指标，目前没有国产公开数据。

磁悬浮分子泵 source：中科科仪

真空系统——

真空获得设备（分子泵、干式真空泵）是全球化的成熟产业，日本、欧洲厂商长期主导高端市场，但这也是国产化进展最快的配套环节。

中科科仪的磁悬浮分子泵已在半导体刻蚀/离子注入/薄膜沉积环节完成长时间验证，多款型号小批量出货。

这一产业环节之所以相对参与企业多，因为它是“通用件”—— 分子泵、干泵在刻蚀、薄膜沉积、离子注入设备上都要用，半导体设备的整体国产化把它的研发成本摊薄了——是EUV光源配套环节里唯一不依赖EUV订单的环节。

控制与仿真软件——

国内公开可查的有朗道燧岩“天算”（等离子体仿真软件，电磁流体多物理场模拟）。

朗道燧岩的三条产品线（光源系统、驱动激光器、仿真软件）恰好覆盖LPP光源的三大核心子系统。

燧岩（EUV光源系统）：公司的核心业务与最终产品集成环节，对标ASML的Cymer光源系统，负责将激光、锡滴、收集镜等部件集成为可点亮的完整EUV光源。目前该板块分为两条产品线：

低功率FlintNano-LPP系列：已进入产品化阶段。其FlintNano LPP-OXXO系统在2026年工博会上展出，国产化率达90%，驱动激光功率1000W，EUV能量大于15W，连续运行超100小时，可用于芯片曝光测试。

高功率FlintMicro-LPP系列：已完成原理论证，但尚未进入工程样机阶段。

辉光（大功率二氧化碳轴快流激光器）：这是EUV光源的“发动机”，负责提供轰击锡滴的驱动激光。朗道燧岩将这一核心部件独立为业务板块。

天算（等离子体仿真软件）：这是整个业务体系中的“软实力”环节。官方信息显示，其仿真成果已应用于半导体设备制造、航空航天、生物医疗等领域。、

这三大板块并非简单并列，而是构成了一个研发闭环：“天算”的仿真软件为“辉光”的激光器和“燧岩”的光源系统提供物理建模与参数优化，减少物理试错；“辉光”的激光器作为核心部件支撑“燧岩”的系统集成；“燧岩”样机运行产生的工况数据，又可以反馈给“天算”和“辉光”，迭代模型和部件设计。

我国极紫外光源产业进展一览，点击下图可放大

再放大到EUV整机产业链，物镜这一端有国科精密。它承担的是“02专项”支持的光刻机投影物镜系统研发，前身是中科院长春光机所超精密光学工程研究中心，超精密光机的研发与制造平台就建在那里。整机这一端有上海微电子。

尾声

最后，据朗道燧岩公布的技术参数：目前这台样机的驱动激光功率1000瓦，激光频率1到20千赫兹，转换效率大于2%，EUV能量大于15瓦，持续工作时间超过100小时，等离子体尺寸60微米，等离子体稳定性3%RMS，能量稳定性5%。

商用EUV光刻系统需要的，是数百瓦级的光源，和数千小时级的连续运行。

15瓦对数百瓦，100小时对数千小时，都是数量级的差距。

source：朗道燧岩

这两个“数量级差距”落到具体的产业环节上，能看到五段跋涉路。

驱动激光器这一段，样机的1000瓦要爬到250瓦EUV输出所需的6.25千瓦以上。

ASML今年2月完成1000瓦光源工程演示，单主脉冲升级为"预脉冲+主脉冲"双脉冲串（two-pulse laser shaping），同时把锡滴频率从 50 kHz 翻倍到 100 kHz。

每上一档，激光、锡滴、收集镜三者都要重新配平。通快那台40千瓦、45.7万个零件的放大器，是从德国工业CO2激光几十年的放大链里长出来的。朗道燧岩“辉光”要走的，同样是一条长路。

锡滴发生器这一段，原理已通，但工程化未验证。

收集镜＋多层膜这一段，长春光机所体系与茂莱、福晶已经把镜面做出来，但寿命数据至今未有国产公开。

真空与污染控制这一段，科科仪的磁悬浮分子泵已进入北方华创，但EUV光源腔体内那种氢气大流量下压住锡碎屑污染的工况，面对的是另外的战场。

最后是整机与客户。光源、照明、投影物镜、双工件台、控制系统，只有在真机上才能见真章。

source：朗道燧岩

差距清晰，路径也清晰。

从产业的后视镜看，Cymer和Gigaphoton都曾在低瓦数阶段靠检测市场养活自己。

光源的商业史里藏着一条隐形阶梯：从瓦级的量测光源，到十瓦级的掩模检测光源，再到数百瓦的光刻量产光源。

但一家公司做不到全部。功率要从15瓦爬到数百瓦，靠的是锡滴—激光—收集镜三者反复配平；收集镜寿命要按月跑出来；真空与污染控制的国产公开数据要从零开始积累——没有一件是朗道燧岩一家能独立完成的。整条链的节奏，取决于每一个核心环节。

所以回到最初的追问：一家仅仅成立两年的上海公司，凭什么做出EUV光源样机？

凭的不是两年的孤军奋战，而是多年产业链的集体跋涉。

今天的样机不是无中生有。是一条链在多年筹谋后交出的第一份整机级答卷。

我们用18年时间整合完成了EUV光源样机。接下去的三到五年里，靠的是真实的运行与验证。

跋涉的脚步不会停在样机，也不会停在光源。

下一场更大的会师，会看见光学系统与双工件台同时走向战场。国科精密承担的EUV投影物镜、华卓精科正在推进的磁悬浮双工件台，都必须在整机级的真实工况下完成验证。而当光源、物镜、工件台最终在整机架构下汇合，那将是中国EUV光刻机的总会师。

主要参考资料：

[1] 朗道燧岩发布国产首套全自研LPP-EUV光源系统.IO资本

[2] 在工博会看上海科创成果如何破除瓶颈、赋能制造、改善民生. 解放日报

[3] 对话北京航空航天大学林楠教授：重新定义EUV光源. 半导体产业纵横

[4] 胡桢麟,林楠. 2μm固体激光驱动极紫外光刻光源辐射特性研究. 中国激光,2026,53(21)

[5] 4亿美元一台！EUV光刻机成为焦点，中国EUV光源已多路线并进. 电子发烧友网

[6] 我国13.5nm极紫外光刻光源研发新进展——破局高转换效率. 中国光学期刊网,2025-03；《中国激光》2025年第6期封面

[7] 面向极紫外光刻光源液滴锡靶的光学测量与检测进展. 激光与光电子学进展,2025,62(13)

[8] Deng X. et al. Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching. Nature 590,576–579 (2021)

[9] 北京科益虹源光电技术有限公司企业主页（02专项准分子激光产业化载体表述）. 天津工业大学就业网转载

[10] 从「实验室样机」到「万台量产」：苏州中科科仪破解高端真空装备产业化难题. 中国工业新闻网

[11] 国产干泵龙头再落子，中科仪4.23亿元加码集成电路干式真空泵.每日经济新闻

[12] 大族激光官网产品中心

[13] 高分辨率3D等离子体诊断、Media Lario收集镜、Cymer基础LPP专利记录. PatSnap专利数据库

[14] 海外半导体设备巨头巡礼系列.东吴证券

[15]朗道燧岩官网

本文基于访谈及公开资料写作，不构成任何投资建议

星船知造原创内容

未经授权，禁止转载